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產(chǎn)品詳情

巖征儀器 高溫反應釜

簡要描述:巖征儀器 高溫反應釜,高真空反應釜是一種能在極低氣壓環(huán)境(通常指絕對壓力低于 1×10?³ Pa,甚至可達 1×10?? Pa) 下進行化學反應、材料制備或提純的專用設備,廣泛應用于化學合成、材料科學、制藥、電子等領域。其核心特點是通過排除反應體系中的氣體(如空氣、水分、揮發(fā)性雜質(zhì)),創(chuàng)造潔凈、無干擾的反應環(huán)境,尤其適用于對氣體敏感、需避免氧化 / 污染或涉及揮發(fā)性物質(zhì)的過程。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-08-21
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詳情介紹

巖征儀器 高溫反應釜,高真空反應釜是一種能在極低氣壓環(huán)境(通常指絕對壓力低于 1×10?3 Pa,甚至可達 1×10?? Pa) 下進行化學反應、材料制備或提純的專用設備,廣泛應用于化學合成、材料科學、制藥、電子等領域。其核心特點是通過排除反應體系中的氣體(如空氣、水分、揮發(fā)性雜質(zhì)),創(chuàng)造潔凈、無干擾的反應環(huán)境,尤其適用于對氣體敏感、需避免氧化 / 污染或涉及揮發(fā)性物質(zhì)的過程。

一、核心功能與適用場景

高真空環(huán)境的核心作用是消除氣體分子對反應的干擾,具體應用包括:

避免氧化 / 水解:如金屬有機化合物合成、納米材料(如金屬粉末)制備,需隔絕氧氣和水汽,防止產(chǎn)物變質(zhì)。

脫除揮發(fā)性物質(zhì):如聚合物的真空除氣(去除殘留單體)、油脂的真空蒸餾(降低沸點,避免高溫分解)。

模擬環(huán)境:如空間材料老化測試、真空鍍膜前的基底預處理(去除表面吸附氣體)。

負壓下的反應調(diào)控:部分反應(如環(huán)化反應、分子內(nèi)環(huán)合)在真空下可促進低沸點產(chǎn)物脫離體系,推動平衡正向進行。

二、基本結(jié)構(gòu)與核心組件

高真空反應釜的設計需同時滿足 “高真空密封" 和 “反應條件控制" 的雙重要求,核心組件包括:

1. 釜體與密封系統(tǒng)(核心)

釜體材質(zhì):

實驗室級:多為 316 不銹鋼(高強度、耐腐蝕),或石英玻璃(需光學觀察時,如光催化反應)。

特殊場景:鈦合金(輕量化、抗高溫氧化)、因科鎳合金(耐強酸腐蝕)。

容積:實驗室常用 0.1-5L,工業(yè)級可達 10-100L,需根據(jù)反應規(guī)模設計。

密封結(jié)構(gòu):

真空密封方式:關鍵在于法蘭連接部位,常用金屬波紋管密封(耐高低溫、反復使用)或氟橡膠 / O 型圈密封(成本低,但耐溫≤200℃,易老化)。

動密封:若涉及攪拌或旋轉(zhuǎn)部件(如攪拌軸),需采用磁流體密封(零泄漏,適用于超高真空)或波紋管機械密封(兼顧真空與耐壓)。

2. 真空獲取與測量系統(tǒng)

真空機組(核心):需多級泵組合以達到高真空,常見配置:

前級泵:旋片式真空泵(粗真空,可達 1×10?2 Pa)或干泵(無油污染,適用于潔凈場景)。

高真空泵:擴散泵(可達 1×10?? Pa,需加熱油擴散,可能引入微量油污染)、分子泵(無油,可達 1×10?? Pa,適用于超高真空且潔凈要求高的場景,如半導體行業(yè))。

真空測量:

粗真空階段(1×10? - 1×10?1 Pa):用熱偶真空計。

高真空階段(<1×10?1 Pa):用電離真空計(精度可達 ±10%)。

需避免真空計探頭直接接觸反應產(chǎn)物(如揮發(fā)性液體),可加裝冷阱或過濾器。

3. 溫度控制系統(tǒng)

加熱方式:

電加熱套(適用于小容積釜體,控溫范圍室溫 - 300℃)。

夾套加熱(導熱油或蒸汽循環(huán),適用于大容積,控溫更均勻)。

紅外加熱(非接觸式,適用于玻璃釜體)。

控溫精度:±1℃(部分高精度型號可達 ±0.1℃),需配合鉑電阻(PT100)實時監(jiān)測。

冷卻需求:若反應放熱或需降溫,可通過夾套通冷卻水或液氮(低溫反應,如 - 80℃)實現(xiàn)。

4. 攪拌與加料系統(tǒng)

攪拌裝置:

磁力攪拌(無軸封,真空密封性最佳,適用于低粘度體系,攪拌速率 50-1000rpm)。

機械攪拌(需配合動密封,適用于高粘度體系,槳葉可選錨式、槳式)。

加料方式:

真空下加料需通過真空進料閥(如球閥配合密封圈),固體可通過料斗加樣,液體可通過注射器或計量泵(需與真空系統(tǒng)兼容)。

部分釜體設計有側(cè)口,可在真空狀態(tài)下臨時補加物料(需快速操作以減少真空損失)。

5. 安全與輔助系統(tǒng)

真空閥門:手動或電動閘板閥(控制真空通斷)、放氣閥(實驗結(jié)束后緩慢通入惰性氣體破真空)。

安全保護:超溫報警(防止加熱失控)、真空度下限報警(避免突然漏氣影響反應)、防爆膜(針對可能產(chǎn)生氣體的反應,防止超壓)。

觀察窗:石英玻璃視窗(耐高溫、透光,可觀察反應狀態(tài)或配合光源進行光化學反應)。

三、巖征儀器 高溫反應釜工作流程(以實驗室為例)

裝料與密封:將反應物加入釜體,確保釜蓋密封面清潔,擰緊法蘭螺栓(均勻用力,避免偏斜導致漏氣)。

預抽真空:先開啟前級泵,關閉高真空泵閥門,抽至粗真空(如 1×10?1 Pa),排除釜內(nèi)大部分空氣。

啟動高真空系統(tǒng):打開高真空泵(如分子泵),抽至目標真空度(如 1×10?? Pa),期間通過真空計實時監(jiān)測。

升溫與攪拌:按反應需求設定溫度,啟動攪拌,確保體系均勻。若需通入氣體(如惰性氣體保護),可通過進氣閥緩慢充入,維持微正壓或特定真空度。

反應監(jiān)測:通過觀察窗或在線傳感器(如取樣口、光譜探頭)跟蹤反應進程。

結(jié)束操作:先停止加熱,待溫度降至安全范圍后,關閉高真空泵,通過放氣閥緩慢通入氮氣破真空,最后打開釜體取出產(chǎn)物。


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